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    1. Exultra 鼎級酸銅電鍍工藝
      Exultra 鼎級酸銅電鍍工藝
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      快速出光,填平能力超強;鍍層清亮無霧;走位效果好,低電位區都具有良好的填平度;鍍層柔韌性好,沒有針孔和麻點,具有良好的耐蝕性能;鍍液穩定,容易操作控制;適用于各種工件的電鍍,特別在首飾工藝品電鍍、衛浴電鍍、塑料電鍍上有突出表現,性能優越。
      HN-M102 半光亮鍍鎳工藝
      HN-M102 半光亮鍍鎳工藝
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      鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達120 ~ 145mV,耐蝕性極好;鍍層柔韌性好,覆蓋能力強,填平效果極佳;不含香豆素,分解產物少,鍍液穩定,容易維護;鍍層柔韌性好,沒有針孔和麻點,具有良好的耐蝕性能;鍍液清亮,使用后不會變色;適用于雙層鎳或多層鎳電鍍中的半光亮鎳電鍍工藝。
      HN-TP 高效光亮鍍鎳工藝
      HN-TP 高效光亮鍍鎳工藝
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      光亮度及填平度高;鍍層柔軟,低電位覆蓋能力強;鍍層清亮潔白, 受鉻性良好;適用于單層光亮鍍鎳或對防腐性能要求高的多層鎳工藝;對于大部分鍍鎳工藝可直接補充此光亮劑,進行轉缸。
      HN-82 高速裝飾性鍍鉻工藝
      HN-82 高速裝飾性鍍鉻工藝
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      采用易控制的可溶性混合催化劑,操作簡單;有較高的陰極電流效率和沉積速度,能在高電流密度下操作;工件可得到較好的活化,有寬廣的光亮范圍;對雜質容忍度好;優越的覆蓋和分散能力。


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